• Articolo , 15 maggio 2008
  • Dal Giappone in Italia per produrre film sottile a tripla giunzione

  • Firmato il Memorandum of Understanding per lo sviluppo di una partnership strategica nel settore del fotovoltaico

Il Direttore della Divisione Mercato di Enel, Francesco Starace, ed il Corporate Senior Executive Vice President di Sharp, Toshishige Hamano, hanno siglato un memorandum di intesa che prevede l’analisi della realizzazione di un impianto industriale in Italia per la produzione integrata di pannelli fotovoltaici basati sulla tecnologia esclusiva di Sharp, il film sottile a tripla giunzione. “La produzione dell’impianto, – spiega Enel – la cui dimensione e struttura è in corso di valutazione, sarà destinata prevalentemente a soddisfare la crescente domanda di moduli fotovoltaici in Italia, così come nei paesi del Sud-Est Europa e nelle Regioni del Mediterraneo”. In sostanza l’accordo prevede che Enel cooperi con il gruppo giapponese nella realizzazione e nella messa in opera degli impianti e che Sharp produca e immetta in rete l’energia elettrica solare. Le due società inoltre, svilupperanno e realizzeranno nuovi campi fotovoltaici, da completare entro il 2011, per un totale di 161 MW in grado di produrre a regime oltre 220 GWh annui, capaci di soddisfare i consumi di 81mila e 500 famiglie e di evitare emissioni di CO2 pari a 110 mila tonnellate annue.